탄탈륨 스퍼터링 타겟

탄탈룸 스퍼터링 타겟 스퍼터린 설명
탄탈륨 스퍼터링 타겟은 원료와 동일한 특성을 갖습니다. 탄탈륨은 희귀하고 단단하며 청회색이며 내식성이 뛰어난 내화 금속 중 하나입니다. 탄탈륨의 융점은 2980도이고 밀도는 16.68g/cm3입니다. 탄탈륨은 높은 융점, 낮은 증기압, 우수한 냉간 가공 성능, 높은 화학적 안정성, 액체 금속 부식에 대한 강한 저항성, 표면 산화막의 큰 유전 상수와 같은 일련의 우수한 특성을 가지고 있습니다. 전자, 야금, 철강, 화학 산업, 초경합금, 원자력, 초전도 기술, 자동차 전자, 항공 우주, 의료 및 건강 관리, 과학 연구와 같은 첨단 기술 분야에서 중요한 응용 분야를 보유하고 있습니다.

 

탄탈륨 스퍼터링 타겟의 성능 요구 사항
탄탈륨 타겟의 순도는 99.95%(3N5), 99.99%(4N), 99.995%(4N5)의 세 가지 수준으로 나뉘며, 특정 개별 불순물 함량은 사용자의 요구 사항을 충족해야 합니다. 정밀 가공 후 탄탈륨 타겟은 표면 거칠기가 좋아 표면이 깨끗하고 밝아야 합니다. 압력 처리 과정에서 탄탈륨 타겟의 내부 구조는 층화되기 쉽습니다. 또한 탄탈륨 잉곳 내부에도 기공이 생기기 쉽습니다.

적격 탄탈륨 타겟에는 내부 조직 층화 및 기공과 같은 결함이 없어야 합니다. 입자 크기는 표 9-24의 요구 사항을 충족해야 합니다. 경도는 60HV~110HV의 요구 사항을 충족해야 합니다. 탄탈륨 타겟은 브레이징 또는 확산 용접으로 뒷판에 용접할 수 있으며 용접 품질은 표9-25의 요구 사항을 충족해야 합니다. 반도체 칩용 탄탈륨 타겟의 직경은 일반적으로 200~460mm, 두께는 6~10mm입니다.

화학 성분

요소	R05200(%,최대)	R05400(%,최대)
C	0.01	0.01
O	0.015	0.03
N	0.01	0.01
H	0.0015	0.0015
철	0.01	0.01
모	0.02	0.02
NB	0.1	0.1
니	0.01	0.01
시	0.005	0.005
티	0.01	0.01
W	0.05	0.05

Yusheng 금속 제품

Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd.는 산시성 Baoji 시 하이테크 개발구에 위치하고 있습니다. 회사의 주요 제품은 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 텅스텐, 몰리브덴, 티타늄, 지르코늄, 니켈, 코발트, 인듐, 하프늄, 주석, 크롬 및 그 합금입니다. 판, 스트립, 호일, 막대, 와이어 등의 기존 가공 프로파일 및 튜브, 보트, 도가니, 스퍼터링 타겟, 코팅 타겟, 가공 부품, 고온로 열 차폐물, 가열 요소, 로 본체(가열로, 소둔로), 내식 장비 및 기타 심가공 제품.

Yusheng 금속 장비

우리는 350KW 전자빔 충격로, 2000T 유압 프레스를 보유하고 있습니다. 1700mm 진공 어닐링로, 42KW 1대와 15KW 정밀 단조 기계 2대, 14-롤 파인 포일 압연기LDD120,LDD-40, LDD-15 , LDD-8 이중 라인 파이프 롤링 기계,2-롤 500T 오픈 빌렛 밀, 4-롤 냉간 압연 기계.6-롤 냉간 압연 기계, 15KW 양면 연신 기계 , 원통형 연삭기, 스키닝 기계, 표면 연삭기 및 기타 일련의 장비.

 

탄탈룸 스퍼터링 타겟 애플리케이션

• 실험실 장비에 사용됩니다.
• 백금대용으로 사용됩니다.
• 야금, 기계 가공, 유리, 세라믹 부문에 사용됩니다. 초합금 생산 및 전자빔 용해에 사용됩니다.
• 니켈 기반 합금의 초합금 첨가물로 사용됩니다.
• 박막 트랜지스터 액정 디스플레이 및 집적 회로(TFT-LCD)의 스퍼터링 타겟으로 사용됩니다.

 

 

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