스퍼터링 탄탈륨 타겟

표적물질은 고속 전하에너지 입자 충격을 위한 표적물질이다. 다양한 타겟 재료(예: 알루미늄, 구리, 스테인레스 스틸, 티타늄, 니켈 타겟 등)를 교체하여 다양한 필름 시스템(예: 초경질, 내마모성, 부식 방지 합금 필름 등)을 얻을 수 있습니다. 탄탈륨 스퍼터링 타겟은 주로 집적 회로, 정보 저장, 액정 디스플레이, 레이저 메모리, 전자 제어 장치 등과 같은 전자 및 정보 산업에 사용됩니다. 유리 코팅 분야에서도 사용할 수 있습니다. 내마모성 재료, 고온 내식성, 고급 장식 용품 및 기타 산업에도 적용될 수 있습니다.

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제품 소개

스퍼터링된 탄탈륨 타겟은 모양에 따라 정사각형 타겟, 원형 타겟, 모양 타겟으로 나눌 수 있습니다. 마그네트론 스퍼터링은 여러 측면에서 증발 코팅 방법에 비해 상당한 이점을 갖는 새로운 물리적 기상 코팅 방법입니다. 성숙한 기술로서 마그네트론 스퍼터링은 많은 분야에 적용되었습니다. 이온 소스에서 생성된 이온을 사용합니다. 이 이온은 진공 속에서 가속되어 모여 고속 에너지 이온빔을 형성하여 고체 표면에 충돌합니다. 여기서 고체 표면의 이온과 원자가 운동 에너지를 교환하여 원자가 충돌하게 됩니다. 고체 표면을 제거하여 고체를 남기고 기판 표면에 침전시킵니다.

다양한 유형의 스퍼터링된 박막 재료가 반도체 집적 회로, 태양광 발전, 기록 매체, 평판 디스플레이 및 공작물 표면 코팅에 널리 사용됩니다. 구리 타겟 - 전도성 층, 고순도 구리 재료는 저항이 매우 낮기 때문에 기술의 110nm 이하 부분에서 배선 재료로 대량 사용되며 이는 칩 집적도 향상에 매우 효과적입니다.

제품 세부정보

상표	유성금속
제품명	탄탈륨 스퍼터링 타겟
청정	99.95%
밀도	95-99%
사양	길이<300 mm ; Width<300 mm Diameter<300 mm; Thickness<1 mm
용인	±0.1mm
표면	3.2Ra
MOQ (영어)	1KG

스퍼터링 탄탈륨 타겟

Baoji Yusheng 금속 기술 Co.% 2c Ltd.

탄탈륨 타겟 애플리케이션

커패시터
매년 소비되는 탄탈륨의 약 절반은 전자 산업에서 주로 커패시터용 분말 및 와이어로 사용됩니다. 탄탈륨 커패시터는 통신, 데이터 저장 및 이식형 의료 기기와 같이 공간에 민감한 고급 애플리케이션에 선호됩니다.

엔진 터빈 블레이드
금속의 높은 융점과 내식성은 합금 용도에 적합합니다. 탄탈륨은 니켈 기반 고온 합금의 첨가제로도 사용되며, 주요 응용 분야는 항공기 엔진용 터빈 블레이드 및 육상 기반 가스 터빈입니다.

화학 처리 장비
탄탈륨의 높은 내식성과 고온 저항성은 금속을 화학 및 제약 산업의 컨테이너, 파이프, 밸브 및 열교환기 라이닝에 이상적인 구조 재료로 만듭니다.

탄탈륨 타겟 합금 시리즈
탄탈륨 타겟 외에도 탄탈륨 실리콘 합금, 탄탈륨 알루미늄 합금, 탄탈륨 텅스텐 합금, 니켈 탄탈륨 합금, 코발트 지르코늄 탄탈륨 합금, 탄탈륨 질화물, 탄탈륨 탄화물, 탄탈륨 붕화물, 탄탈륨 오산화물 등과 같은 스퍼터링 타겟도 제공할 수 있습니다.

제품 쇼

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