산화니오븀 회전 타겟

현재 시장에서 가장 많이 사용되는 니오븀 산화물 평면 타겟은 평면 타겟의 제조 기술이 점점 더 성숙해지고 있지만 사용 과정에서 평면 타겟의 활용률은 20-30%에 불과합니다. 즉, 대부분의 대상이 낭비되어 사실상 생산 비용이 증가합니다. 대상 재료의 활용률을 개선하고 기업의 생산 비용을 줄이기 위해 사람들은 새로운 대상 유형을 연구하기 시작했으며 회전 대상의 활용률이 70-80퍼센트에 도달할 수 있는 매우 높다는 것을 발견했습니다. , 그리고 높은 가동률은 다운스트림 제품의 비용을 절감하는 동시에 환경 친화적이며 재료를 절약할 수 있습니다.

현재 니오븀 산화물 회전 타겟의 생산은 주로 분무 공정을 채택하고 이 공정으로 생산된 타겟은 밀도가 낮고 일반적으로 80% 미만으로 사용 과정에서 발화 및 슬래그를 일으키기 쉽습니다. 차례는 다운스트림 제품의 품질과 수율에 영향을 미칩니다. 또한, 열간 프레스 노의 크기와 흑연 몰드의 크기에 제한을 받으며, 열간 프레스 방식으로 제조된 니오븀 타겟의 높이는 일반적으로 100mm 미만으로 작고, 회전 피혁 E의 경우 길이가 { {2}}, 일반적으로 사용하기 전에 높이가 10mm인 15개의 튜브 타겟을 접합해야 하므로 더 많은 이음매가 발생하고 코팅 제품의 품질에 영향을 미칩니다. 위의 단점으로 인해 시장에서 스퍼터링 품질에 대한 요구 사항이 높은 일부 제조업체는 비용이 많이 들고 종종 사람의 영향을 받는 외국 회전 타겟을 사용합니다. 따라서 현재 확대되고 있는 시장 수요를 충족시키기 위해 초소형 회전 타겟을 준비하는 프로세스를 개발하는 것이 시급합니다.

당사는 기존 기술의 단점을 극복하고 고밀도 및 우수한 전도성을 갖는 니오븀 산화물 회전 타겟을 제공할 수 있습니다. 나노 처리에 의해 원료 분말, 금속 니오븀 분말의 입자 크기가 현저히 감소되고, 산화니오븀 분말 내 금속 니오븀 분말의 분포가 보다 균일하여 표적 물질의 전도도가 높아진다. 또한, 분절 가열에 의해 타겟 물질의 밀도를 더욱 증가시키기 위해 분위기 소결 처리 단계를 채택한다. 또한 대상 블랭크의 두께는 요구 사항에 따라 자유롭게 설정할 수 있으며 열간 프레스 방법으로 준비한 대상 블랭크와 같은 절단 공정이 필요하지 않아 생산 효율을 크게 향상시킬 수 있습니다. 또한, 장비 크기의 제약으로 타겟재의 높이가 10mm 미만인 단점이 있는 니오븀 산화물 회전 타겟을 제조하기 위한 열간 프레스 방식에 비해 장비의 크기에 영향을 받지 않고, 다른 크기의 타겟은 다른 금형을 사용하여 얻을 수 있으며 타겟 재료의 높이는 300mm 이상에 도달할 수 있습니다.

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