니오븀 스퍼터링 타겟

니오븀 스퍼터링 타겟

1. 재료 유형: 니오븀
2.기호:Nb
3. 원자량: 92.90638
4.원자 번호:41
5.Z 비율:0.492
6.스퍼터:DC
7.최대 전력 밀도*(와트/평방 인치):100
8. 본드 유형: 인듐, 엘라스토머
9.설명: W 소스를 공격합니다.
10.색상/외관:회색, 금속
11. 열 전도도: 54 W/mK
12.융점(도):2,468
13. 열팽창 계수: 7.3 x 10-6/K
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제품 소개

주기율표의 5족 금속인 니오븀은 광택이 있는 회색의 연성이 있는 상자성 금속(표 참조)으로 가장 바깥 껍질에 특이한 전자 배열을 가지고 있습니다. (이것은 팔라듐(45), 로듐(45) 및 루테늄(44)(46) 근처에서 볼 수 있습니다. T=0 K에서 녹는점까지 체심 입방체 3개의 결정학적 축에 따른 열팽창은 고해상도로 측정되었으며 그 결과 입방정 구조와 일치하지 않는 이방성을 나타내므로 이 분야에 대한 더 많은 연구가 기대된다.

니오븀 스퍼터링 타겟에 대한 세부 정보
순도: 99.95%;

원형: 지름: 16인치; 블록: 길이: 32인치; 너비: 12인치; 두께: 1mm;

타겟 유형: 평면 스퍼터링 타겟, 회전식 스퍼터링 타겟.

Niobium Sputter Target delivery

니오븀 스퍼터링 타겟의 용도는 건축용 유리, 광섬유, 광학 필름 및 마모 코팅입니다.
특징: 좋은 순도; 정제된 곡물(평균 입자 크기 약 40um)

제조 방법

1. 정제
전자 빔 용융의 여러 단계에 이어 압연 및 어닐링, 세척 및 최종 패킹이 이어집니다.
환경 독소로부터 보호
배송 중 보호
2.옵션
스퍼터링 타겟 본딩 서비스; 99.95% 최소 순도; R&D 애플리케이션을 위해 더 작은 크기도 제공됨


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밀도가 가장 높은 고품질 니오븀 스퍼터링 타겟은 Yusheng Metal의 전문 분야입니다. 반도체, 화학 기상 증착(CVD), 물리 기상 증착(PVD), 디스플레이 및 광학 응용 분야에서 가장 높은 순도(99.999% )와 가장 작은 평균 입자 크기를 가진 니오븀(Nb) 스퍼터링 타겟을 사용할 수 있습니다. 최대 820mm의 평면 타겟 치수 및 구성을 갖춘 당사의 박막용 업계 표준 스퍼터링 타겟은 모노블록 또는 접착 제품으로 제공됩니다. 그들은 전통적인 스퍼터링 장치와 태양 에너지 또는 연료 전지 및 플립 칩 응용 분야를 위한 대면적 코팅과 같은 최첨단 공정 장비와 함께 작동하도록 설계된 홀 드릴 위치, 스레딩, 베벨링, 홈 및 백킹을 특징으로 합니다. 또한 맞춤형 크기와 금속은 연구용 표적과 함께 만들어집니다. XRF(X-Ray Fluorescence), GDMS(Glow Discharge Mass Spectrometry), 유도 결합 플라스마(Inductively Coupled Plasma)와 같은 가장 효과적인 방법론을 사용하여 모든 표적을 평가합니다( ICP). "스퍼터링"은 이온 충격을 통해 대상 물질을 제어된 제거 및 방향성 가스/플라즈마 상으로 전환하는 것입니다. 직사각형, 원형 ​​또는 타원형과 같은 거의 모든 크기의 대상 외에도 이 범위 밖의 대상도 제공할 수 있습니다.

결정화, 고체 상태 및 승화와 같은 기타 초고순도 절차는 재료를 만드는 데 사용됩니다. American Elements는 비즈니스, 학계 및 혁신적이고 독점적인 기술에 사용하기 위한 고유한 구성을 만드는 것을 전문으로 합니다. Yusheng Metal은 산업, 학술 및 독점 용도를 위한 고유한 구성을 만드는 것을 전문으로 합니다.또한 Yusheng Metal은 나노입자, 용액 및 유기 금속과 같은 기타 기술을 사용하여 다양한 가공 형태뿐만 아니라 막대, 막대 또는 판 형태로 희토류 금속 및 기타 대부분의 최첨단 재료를 주조할 수 있습니다. 로드, 디스크, 과립, 잉곳, 펠릿 및 비트를 생산하는 것 외에도 니오븀도 만듭니다. 요청에 따라 추가 모양을 사용할 수 있습니다.

Niobium Sputtering Targets use

 

 

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