티타늄 스퍼터링 타겟

티타늄 스퍼터링의 대상은 무엇입니까?
티타늄 스퍼터링 타겟을 이해하기 위해서는 초기에 티타늄을 이해하는 것이 중요합니다.

금속 요소 티타늄은 견고함과 내구성으로 유명합니다. 상대적으로 높은 융점(1,650도 또는 3,{3}}도 F 이상)으로 인해 내화성 금속으로서 가치가 있습니다. 스퍼터링 코팅은 티타늄 금속으로 구성된 티타늄 타겟을 사용하는 방법입니다.

주조 및 용융은 티타늄 타겟을 만드는 데 사용되는 두 가지 기본 공정입니다.

금속이 녹을 때 고온을 사용하여 액체로 변하게 합니다. 금형에 넣고 냉각 시간을 주면 대상이 생성됩니다.

주조: 고에너지 입자가 진공 챔버 내부의 금속에서 발사됩니다. 그 결과 금속이 기화하여 냉각되면 대상 표면에 응결됩니다.

티타늄(Ti) 사양

집적 회로를 만드는 핵심 구성 요소 중 하나인 순도는 종종 99.99% 이상을 요구합니다. 반도체 및 태양광 산업을 위해 AEM은 텅스텐 티타늄(W/Ti 90/10wt%) 스퍼터링 타겟과 같은 티타늄 합금 타겟을 제공합니다. W/Ti 스퍼터링의 목표 밀도는 14.24g/cm3를 초과할 수 있으며 순도는 99.995%에 근접할 수 있습니다.

연성이 있고 강한 금속 티타늄은 밀도가 낮습니다(특히 산소가 없는 환경에서). 상대적으로 높은 융점(1,650도 또는 3,{4}}도 F 이상)으로 인해 내화 금속으로서 가치가 있습니다. 전기 및 열 전도성이 낮고 상자성입니다. 하드웨어 도구 코팅, 장식 코팅, 반도체 구성 요소 코팅 및 평면 디스플레이 코팅은 모두 티타늄 스퍼터링 타겟에 자주 사용됩니다. 집적 회로를 만드는 핵심 구성 요소 중 하나인 순도는 종종 99.99% 이상을 요구합니다. 반도체 및 태양광 산업을 위해 AEM은 텅스텐 티타늄(W/Ti 90/10wt%) 스퍼터링 타겟과 같은 티타늄 합금 타겟을 제공합니다. W/Ti 스퍼터링의 목표 밀도는 14.24g/cm3를 초과할 수 있으며 순도는 99.995%에 근접할 수 있습니다.

평면 패널 디스플레이, 하드웨어 도구용 장식 코팅 및 반도체에 사용됩니다.

특징: 저렴한 비용; 고순도; 정제된 곡물; 공학 미세구조; 20㎛의 평균 입자 크기; 반도체 등급.

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