고순도 탄탈륨 입자

고순도 탄탈륨 입자의 처리 흐름:

1. 원료 준비, 고품질 원료 선택, 일부는 수입 재료를 선택하여 입상 재료의 품질을 보장합니다.

2. 주괴 제련, 진공 유도 용해, 전자빔 용해, 현탁 제련 등

3. 조성 분석, ICP-MS, GDMS, 탄소-황, 산소-질소 분석기.

4. 성형, 주괴 주조, 압연, 산세척, 알칼리 세척.

5.5퍼센트 . 표면 처리, 선재, 와이어 드로잉, 연마, 디버링.

6. 제품 테스트 스탬핑, 절단, 순수한 물 초음파 청소.

7. 보관하지 않은 포장.

원료의 고순도 탄탈 입자 분석: 탄소 및 황 분석기, 산소 분석기 및 기타 금속 불순물 함량을 감지하는 장비. 순도 표준을 보장하기 위해 ICP, GDMS 및 기타 장비 탐지 및 분석, 금속 불순물 함량, 외관 크기 감지: 마이크로미터를 통해 제품 크기의 캘리퍼스 감지(표준에 해당하는지 여부). 제품의 표면은 표면이 평활하고, burr가 없고, 깨끗하고, oil-free인지를 표면청도계로 검사한다.

고순도 탄탈륨 입자 포장 및 보관 지침:

1. 창고 외부 포장: 스트레이트 빈 가방 내부 스트레이트 빈 패킹, 맞춤형 제품 대상 재료 상자 외부, Carton Express Transportation.

2. 보관 방법: 제품을 받은 후 건조한 환경, 밀봉된 포장에 보관해야 합니다.

3. 사용 주의: 깨끗한 장갑을 사용하여 사용하기 전에 대상 표면이 깨끗한지 관찰하고, 재료에 직접 손이 닿지 않도록 하고, 기름 및 기타 이물질로 오염되지 않도록 하십시오.

4. 적용 가능한 장비: 모든 종류의 단일 타겟 스퍼터링 시스템, 다중 타겟 스퍼터링 시스템, 이온 스퍼터링 시스템 마그네트론 스퍼터링 장비에 적용됩니다.

5. 응용 분야: 평판 디스플레이, 특수 코팅 등, 과학 실험 또는 연구 응용, 마이크로 나노 가공, 장치 제조 및 기타 관련 맞춤형 제품은 반도체 칩 및 광전지에 널리 사용됩니다.

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