Niobium 스퍼터링 대상 제조업체

생산 과정

1. 원료 선택 :고급 니오브 금속 블록을 원료로 사용하여 원료의 순도와 품질을 보장하는 것이 고품질 니오피움 표적의 후속 생산의 기초입니다.

2. 용융 :Niobium 원료는 진공 아크 용융, 전자 빔 용융 및 기타 방법에 의해 용융된다. 진공 아크 용융물은 아크에 의해 생성 된 고온을 사용하여 니오 비움 원료를 빠르게 녹이고 높은 진공 환경에서 불순물을 제거 할 수 있습니다. 전자 빔 용융은 고 에너지 전자 빔을 사용하여 Niobium 원료를 폭격하여 녹입니다. 이 방법은 용융 과정과 온도를보다 정확하게 제어 할 수 있습니다.
3. 캐스팅 :제련 니오브 액체는 사전 디자인 된 곰팡이에 도입되고, 특정 냉각 조건 하에서 고형화되고, 냉각되고 고형화되어 니오피움 잉곳을 형성한다.
4. 단조 :Niobium Ingot은 단조되고 외부 힘이 적용되어 플라스틱 변형을 유발합니다.
5. 후속 처리 :단조 후 Niobium 물질은 또한 산화물 스케일을 제거하고 가공 응력을 제거하기 위해 절인, 진공 어닐링 및 기타 처리가 필요할 수 있으며, 마지막으로 완성 된 Niobium 표적 물질을 얻기 위해 기계적으로 가공했습니다.

제품 세부 사항

Niobium 표적의 주요 응용
1. 반도체 필드
Niobium 표적은 트랜지스터 및 평면 패널 디스플레이 및 통합 회로와 같은 반도체 장치를 제조하는 데 사용될 수 있습니다. 금속성 니오피움은 우수한 화학적 안정성과 전도성을 가지며, 반도체 제조 공정에서 우수한 전도성 역할을하여 장치의 안정성과 신뢰성을 보장 할 수 있습니다.
2. 코팅 필드
Niobium 표적은 금속, 세라믹 및 기타 재료의 표면 처리를위한 PVD (물리 증기 증착) 코팅 재료로 사용되어 마모성 및 부식 방지 보호 층을 형성 할 수 있습니다. Niobium 생성물은 코팅 공정 동안 우수한 필름 형성 특성 및 화학적 안정성을 나타내며, 이는 코팅의 경도, 접착력 및 내식성을 향상시킬 수 있습니다.

제품 쇼

Niobium 표적

Niobium 합금

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