텅스텐 대상텅스텐 스퍼터링 타겟이라고도 하는 텅스텐 스퍼터링 타겟은 순수한 텅스텐 분말로 만든 은백색의 외관을 가진 제품으로 우수한 물리적, 화학적 특성으로 인해 많은 분야에서 인기를 얻고 있습니다.
텅스텐 스퍼터링 타겟 생산 공정:
일반적으로 분말야금법으로 제조한다. 먼저 텅스텐 분말을 진공 열처리로에 넣어 사전 탈기한 다음 수소를 도입하고 계속 가열하여 탈기합니다. 둘째, 진공 핫 프레싱을 통해 탈기된 텅스텐 분말을 소결합니다. 셋째, 텅스텐 분말을 1회 투입한다. 소결된 제품을 열간 정수압 프레스로 2차 소결한다. 넷째, 소결된 제품의 전면을 기계가공 및 연마하여 제품을 얻는다.
주1) 텅스텐 분말의 순도는 99.999% 이상이어야 하며 입자 크기는 3.2-4.2μm 사이여야 합니다.
텅스텐 대상 애플리케이션:
평면 패널 디스플레이, 태양 전지, 집적 회로, 자동차 유리, 마이크로 전자 공학, 메모리, X선관, 의료 장비, 제련 장비 및 기타 제품에 널리 사용됩니다.
Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd.는 텅스텐 타겟의 순도, 밀도, 미세 구조, 내부 품질, 용접 품질, 외관 품질 및 기하학적 크기가 코팅 품질에 중요한 영향을 미치고 기대한다는 것을 모든 사람에게 상기시킵니다. 구매에.
