1. 마그네트론을 사용하여 스퍼터링
마그네트론 스퍼터링에는 무선 주파수, 중간 주파수 및 DC 스퍼터링의 세 가지 유형이 있습니다.
A. 증착막 밀도가 낮고 DC 스퍼터링 전원 공급 장치가 저렴합니다. 일반적으로 국내 광열 및 박막전지에서는 에너지 소모가 적고 전도성 금속을 스퍼터링 타깃으로 사용한다는 점에서 이 기술을 채택하고 있다.
B. RF 스퍼터링의 에너지는 다소 높습니다. 스퍼터링 타겟으로는 전도성 타겟 또는 비전도성 타겟을 사용할 수 있다.
C. 중주파 스퍼터링 타겟으로는 금속 또는 세라믹 타겟을 사용할 수 있습니다.

2. 스퍼터링 타겟의 분류 및 용도
스퍼터링 타겟은 모양과 크기가 다양하며 모두 같은 방식으로 분류되지는 않습니다. 모양에 따라 긴 타겟, 정사각형 타겟, 원형 타겟으로 분류할 수 있으며, 구성 요소에 따라 금속 타겟, 합금 타겟, 세라믹 화합물로 만들어진 타겟으로 분류할 수 있습니다. 다양한 응용분야에 따라 반도체와 연계된 세라믹 타겟, 기록매체용 세라믹 타겟, 디스플레이용 세라믹 타겟 등으로 구분할 수 있습니다. 스퍼터링 타겟은 정보 저장 등 전자, 정보 분야가 주요 사용자입니다. 이 사업에서는 스퍼터링 타겟을 사용하여 하드 디스크, 자기 헤드, 광 디스크 및 기타 관련 박막 제품을 만듭니다.

현재 기록매체 세라믹 타겟 시장은 정보산업의 지속적인 성장으로 인해 수요가 증가하고 있으며, 기록매체 타겟의 연구개발이 언론의 많은 주목을 받고 있습니다.