우리 모두 알고 있듯이 목표의 핵심 성과 지표 중 하나는 순수성입니다. 타겟의 순도 요구 사항은 실제 적용 분야에 따라 다릅니다. 고순도 티타늄 타겟 재료를 사용하는 것은 일반적인 산업용 순수 티타늄보다 비용이 더 많이 들고 적용 범위가 더 작습니다. 주로 몇 가지 전문 분야의 요구에 맞게 활용됩니다. 고순도 티타늄 타겟의 주요 용도는 무엇입니까?
고순도 티타늄 타겟은 주로 다음 용도로 사용됩니다.
1. 생물학적 성분
티타늄은 자성이 없기 때문에 강한 자기장에도 자화되지 않습니다. 인체에 잘 작용하며 부작용이 없습니다. 인체용 임플란트를 만드는 데 활용될 수 있습니다. 그러나 티타늄은 불순물을 용해시키기 때문에 임플란트용 티타늄의 순도는 실용적일 만큼 높아야 합니다. 일반적으로 의료용 티타늄 재료는 고순도 티타늄 수준에 도달하지 못합니다. 생물학적 결속기는 고순도 티타늄 와이어로 만들 수 있습니다. 카테터 내장 티타늄 주사바늘도 마찬가지로 고순도 티타늄 수준에 도달했습니다.
2. 장식재료
고순도 티타늄은 대기 부식에 대한 저항성이 높아 대기에 장기간 노출되어도 본래의 자연스러운 색상을 유지합니다. 그 결과 건축 장식용 재료에도 고순도 티타늄을 사용할 수 있습니다. 또한 최근에는 티타늄이 팔찌, 시계, 안경테 등 다양한 고급 액세서리와 의류를 만드는 데 사용되었습니다. 티타늄을 사용하는 이유는 부식에 강하고, 색이 변하지 않으며, 좋은 광택을 오랫동안 유지할 수 있고, 피부에 닿았을 때 피부에 자극을 주지 않기 때문입니다. 티타늄에 사용되는 티타늄의 순도는 5N 수준입니다. 일부 장식이 달성되었습니다.
3. 재료 수집가
티타늄은 고온에서 다양한 물질과 상호 작용할 수 있는 화학적 특성을 지닌 특히 반응성이 뛰어난 금속입니다. O2, N2, CO, CO2 및 수증기를 포함한 고순도 티타늄의 표면에서 강력한 활성 가스 흡착이 발생합니다. 650도 이상. 펌프 벽에는 증발된 Ti 필름이 흡착 능력이 높은 표면을 만들 수 있습니다. 이러한 특성으로 인해 Ti는 극도로 높은 진공을 펌핑하는 시스템에서 게터로 자주 활용됩니다. 스퍼터링 이온 펌프의 최종 작동 압력은 승화 펌프, 스퍼터링 이온 펌프, 등.
4. 전자적 형태의 정보매체
최근 반도체 기술, 정보 기술 등 첨단 산업의 급속한 확장으로 인해 스퍼터링 타겟, 집적 회로, DRAM 및 평면 디스플레이에 고순도 티타늄의 사용이 확대되고 있습니다. 전진합니다.반도체 VLSI 산업의 제어 전극용 확산 방지벽 및 배선 재료로서 티타늄 실리콘 화합물, 티타늄 질소 화합물, 텅스텐 티타늄 화합물 등이 재료는 스퍼터링 기술을 사용하여 생산되며 높은 티타늄 타겟이 필요합니다. 특히 방사성 및 알칼리 금속 원소의 순도.
최근에는 스퍼터링 공정에 사용되는 티타늄 타겟의 순도에 맞는 고순도 티타늄도 사용되기 시작했습니다. 현재 티타늄 순도는 4Mbit VLSI의 경우 최소 4N5(99.995%) 또는 5N(99.999%) 이상이어야 하며, 16Mbit 3세대 VLSI의 경우 최소 6N(99.9999%)이 필요합니다.
