하프늄 타겟

하프늄 타겟은 고순도 하프늄 금속으로 만들어지며 우수한 열 전도성, 기계적 강도 및 화학적 안정성을 갖습니다. 하프늄 타겟은 물리적 증발 증착, 마그네트론 스퍼터링 및 기타 산화물, 질화물, 규화물 및 금속과 같은 다양한 박막 재료를 준비하는 기술에 널리 사용됩니다. 반도체 제조에서 하프늄 타겟은 일반적으로 실리콘, 실리콘 질화물, 알루미나 및 지르코니아와 같은 박막 재료를 준비하는 데 사용됩니다. 이러한 박막 소재는 소자의 안정성과 성능을 향상시키는 등 반도체 소자에서 중요한 역할을 합니다. 디스플레이 제조에서 하프늄 타겟은 ITO(인듐주석산화물), 산화아연(ZnO)과 같은 투명 전극 재료를 준비하는 데 일반적으로 사용됩니다. 하프늄 타겟은 높은 순도와 우수한 특성으로 인해 반도체 및 디스플레이 제조에서 중요한 역할을 합니다. 하프늄 타겟에 대한 수요는 업계가 발전함에 따라 계속해서 증가할 것입니다.

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제품 소개

하프늄 타겟 준비 과정

하프늄 금속의 제조: 하프늄 금속은 하프늄 타겟 물질의 원료로서 사염화 하프늄 또는 불화 하프늄을 환원하여 제조해야 합니다. 하프늄 금속 가공: 하프늄 금속은 일반적으로 단조, 연신, 절단 및 기타 가공 방법을 통해 필요한 모양과 크기로 가공됩니다. 하프늄 타겟 재료의 세척: 하프늄 타겟 재료 표면의 불순물과 산화물을 세척하여 재료의 순도를 보장합니다.

하프늄 타겟 재료의 가공 및 테스트: 결정화된 하프늄 바를 잉곳으로 녹인 다음 잉곳을 필요한 모양과 크기의 타겟 재료로 가공한 다음 순도와 입자 크기를 엄격하게 테스트하여 하프늄 타겟 재료의 품질을 보장합니다. 요구 사항을 충족합니다. 이상이 하프늄 타겟재 제조의 주요 단계이다. 제조업체마다 준비 과정이 다를 수 있지만 일반적으로 위의 단계를 기반으로 합니다.

하프늄 타겟의 특성

하프늄 타겟 형상	플랫 타겟, 특수한 모양의 사용자 정의
하프늄 타겟 순도	99.95%
상표	유성금속
등록 상표	Hf1
기원	Baoji 중국
하프늄 목표 크기	도면에 따라 처리되거나 다른 사람이 맞춤화

우리의 제품

하프늄 타겟

하프늄 합금

하프늄 타겟

Yusheng Metal의 기존 제품 사양:
에이. 하프늄 입자(결정성 하프늄) 직경 2*(2.5-5mm), 이 중 Zr은 1.5% 이하

비. 하프늄 입자(낮은 지르코늄 하프늄) 기존 순도 99.95% 이상, 그중 Zr<0.5%

기음. 하프늄 입자(스폰지 하프늄) 기존 순도 99.4% 이상, 그중 Zr<2%

디. 하프늄 타겟 물질 순도 99.9% 이상(지르코늄 포함), 순도 99.95% 이상(지르코늄 포함), 사양 및 크기: 원형 타겟, 사각형 타겟, 튜브 타겟 등(크기는 맞춤 설정 가능)

이자형. 하프늄 분말 순도 99.9% 이상(지르코늄 포함), 순도 99.95% 이상(지르코늄 포함), 크기: -300 메쉬.

Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd.는 고순도 코팅 스퍼터링 타겟 및 고순도 코팅 필름 재료의 연구 개발 및 생산에 중점을 두고 있습니다.
10년 이상의 재료 연구 개발 및 응용 경험을 바탕으로 최첨단 생산 장비와 결합하여 금속 타겟 및 필름 재료, 고순도 합금 타겟 및 필름 재료를 제공할 수 있습니다.

각종 증발코팅 도가니, 증발보트 등을 중심으로 한 제품과 기타 액세서리는 반도체, 정밀광학, 레이저적외선, 박막태양에너지, 터치디스플레이, 기능성유리, 표면코팅 등 분야에서 폭넓게 활용될 예정이다. 모든 주요 기업과 과학 연구 기관은 원스톱 코팅 재료 솔루션을 제공하고 재료 기술 지원을 제공하기 위해 서로 협력하고 협력하는 것을 환영합니다. 필요한 사항이 있으면 직접 전화하세요.